先端半導体の開発に不可欠なEUV光照射と解析評価を日本で唯一実施する新会社を設立

我々の生活の基盤である半導体は、進化を続けています。この半導体の微細化や新材料開発には、特殊な光「EUV光※」が不可欠です。つい最近も、米国の最先端工場に高精細なEUV露光装置が導入されています。

日本の半導体産業は素材分野の新材料開発が強みであり、今後の開発にはこのEUV光が必須です。しかしEUV光を利用した研究開発は，海外の試験研究機関に頼っているのが現状です。これにより、輸出規制による試料輸送の長期化、照射にかかる高いコスト、海外へのノウハウ流出が生じ、産業競争力低下が懸念されます。

そこで本学は、本年４月１日に九州大学１００％子会社として設立した「九大OIP株式会社」を通じて、EUV光照射と解析評価サービスを提供する事業会社を新たに設立することとしました。新会社においては、EUV光の照射に加え、照射結果を解析評価可能な人材育成にも取り組み、来るべき本格的なEUV光時代の到来に対応します。

また、本学としては、より中長期的な研究開発課題に対応するため、新会社のサービスをテコに、半導体開発に関する共同研究・人材育成を一層活性化します。

※Extreme Ultraviolet light; 極端紫外光：半導体の製造や材料（フォトレジスト等）開発に不可欠

会社名       ＥＵＶフォトン株式会社
設立日       2024年7月29日
本社 　　　　福岡県福岡市
資本金       100万円
事業　　     EUV光照射及び解析評価、教育・人材育成・セミナー等

（今後のスケジュール）
7月29日　　　法人設立
8月26日　　　設立記念パーティー、顧客候補企業とのサービス、内容協議・具体化
2025年度中　照射サービス開始

• 半導体材料メーカー、素材メーカー
• デバイスメーカー
• 半導体製造装置メーカー　等

実用化EUV光源は、本学の岡田龍雄教授(現九州大学名誉教授)等が2005年に論文発表した技術を基盤としているなど、本学は、20年以上の蓄積によりEUV光照射に必要な研究成果・ノウハウ・人材を擁することに加え、材料を解析評価する設備を多数保有しています。

このような条件が揃っている本学だからこそ、先端半導体の開発に不可欠なEUV光照射と解析評価を日本で唯一実施する新会社が設立できるといえます。